טכנולוגיות

ריסוס מיקרופלזמה

יישום ציפויי אבקה בטמפרטורת חימום של פחות מ-100 מעלות צלזיוס על ידי שימוש בזרם מיקרו-פלזמה קוואזי-למינרי בעל אנתלפיה גבוהה לצורך יישום ציפויי אבקה.

הנחת ציפויים באמצעות פלזמה בפולסים

יישום ציפויים פונקציונליים באמצעות פרצי ניצוצות פלזמה בפולסים באוויר הטכנולוגיה מבוססת על מגע מחזורי של האלקטרודה עם החלק, שבמהלכו חומר האלקטרודה מתכלה, מועבר ומשוקע על פני השטח של הרכיב.

PACVD-CAPP

הפקת ציפויים באמצעות השקעה כימית מתוך שלב האדים עם אקטיבציה פלזמית בלחץ אטמוספרי תהליך ציפוי פלזמוכימי בזרם גז ללא ואקום וללא תאים מתבצע בהנחת ציפויים מתוך שלב גז, תוך הפעלת פלזמה שמאקטבת את זרם הגז ומפיחה את פני השטח שעליהם יוטמע הציפוי. התהליך מבוצע בטמפרטורות חימום אינטגרליות של 50-150 מעלות צלזיוס, מבלי לשנות את חספוס פני השטח ההתחלתי של החלק.

ניקוי ואקטיבציה של פלזמה

הסרת גזים, לחות, חלקיקי אבק, זיהומים אורגניים וביולוגיים שנדבקו על פני השטח של רכיבים, וכן הענקת פעילות כימית בפני השטח באמצעות השפעת פלזמה בלחץ אטמוספירי – גז מיונן בעל אנרגיה גבוהה.

סטריליזציה על יד פלזמה

ההשמדה של חיידקים, וירוסים, פטריות, מיקרואורגניזמים פתוגניים, נבגים, פריונים, רעלנים וזיהומים אורגניים על פני משטחים שונים (כולל רקמות חיים ופצעים פתוחים) באמצעות השפעת פלזמת אטמוספירה.